Sílice coloidal/sol de sílice de tipo bajo en sodio Es una importante materia prima industrial. Se utiliza ampliamente en muchos campos, como recubrimientos, cerámica, alimentos y medicinas, debido a su buena estabilidad y versatilidad. A continuación se presentará en detalle el método de preparación de sílice coloidal de tipo bajo en sodio, incluida la selección de la materia prima, el proceso de preparación y el control de parámetros clave.

1. Selección de materia prima
Las materias primas para preparar sílice coloidal de tipo bajo en sodio son principalmente las siguientes.
Fuente de silicio: Las fuentes de silicio más utilizadas son el silicato de sodio, el silicato de amonio y el polvo de sílice. Al seleccionar una fuente de silicio, se debe dar prioridad a su pureza y contenido de iones de sodio.
Agua: El agua pura es el principal disolvente en el proceso de preparación y es necesario garantizar que la calidad del agua cumpla con los requisitos experimentales.
Ácido o álcali: Los agentes ácidos y alcalinos para ajustar el valor del pH, comúnmente utilizados son ácido clorhídrico, agua con amoníaco o ácido acético.

2. Proceso de preparación
El proceso de preparación de sílice coloidal de tipo bajo en sodio incluye principalmente los siguientes pasos:
Reacción de hidrólisis: disuelva la fuente de silicio seleccionada en agua pura para formar una solución transparente. Tomando como ejemplo el silicato de sodio, se puede disolver en agua y luego se puede ajustar el valor del pH agregando ácido clorhídrico diluido gota a gota. El valor del pH se controla en el rango de 6 a 9 para garantizar el buen progreso de la reacción.
Proceso de gelificación: a medida que se ajusta el valor del pH, los iones de silicato en la solución comienzan a polimerizarse y formar pequeñas partículas. Este proceso se llama gelificación. En esta etapa, se debe continuar agitando para mantener la uniformidad de la solución y evitar que las partículas se sedimenten.
Control de temperatura: Durante el proceso de gelificación, la temperatura de reacción tiene una influencia importante en la formación y estabilidad de las partículas. Generalmente, la temperatura de reacción se controla entre temperatura ambiente y 80 grados Celsius para promover el crecimiento de partículas y mejorar su uniformidad. La temperatura alta ayuda a acelerar la reacción, pero se debe evitar una temperatura excesiva para provocar la aglomeración de partículas.
Tratamiento de estabilización: para mejorar la estabilidad del coloide, es necesario tratar la solución después de la reacción. Se pueden agregar estabilizadores (como tensioactivos) para evitar la agregación y precipitación de partículas. La elección del estabilizador debe ajustarse según los requisitos específicos de la aplicación para garantizar la estabilidad del producto final.
Filtración y lavado: una vez completada la reacción, la solución puede contener una fuente de silicio sin reaccionar y otras impurezas. En este momento, estas impurezas deben eliminarse mediante filtración o centrifugación. El coloide filtrado debe lavarse varias veces con agua pura para eliminar los iones de sodio residuales y otras impurezas para garantizar la pureza del producto final.

3. Ajuste de pH y concentración.
Durante el proceso de preparación, el pH es un parámetro clave. Un pH demasiado alto o demasiado bajo afectará la formación y estabilidad del coloide. Por lo tanto, el valor del pH debe comprobarse y ajustarse periódicamente. Además, también es necesario ajustar la concentración del producto final según los requisitos de la aplicación, normalmente controlada entre el 10% y el 30%.

4. Almacenamiento y uso
Después de la preparación, la sílice coloidal baja en sodio debe almacenarse en un ambiente fresco y seco, lejos de la luz solar directa y de las altas temperaturas. Al usarlo, es necesario agitarlo completamente para garantizar la uniformidad del coloide y seguir las instrucciones de uso pertinentes en la aplicación.